相對(duì)于本線low E玻璃而音，在線LowE政確所要求的技術(shù)性較高，主要體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面:

　　①鍍膜前驅(qū)體配方的研究

　　劑的配比。應(yīng)根據(jù)Low~E玻璃的性能指標(biāo)，確定有機(jī)錫化合物、有機(jī)硅化合物及各種助。

　　②干涉色的控制LowE玻璃膜層為摻雜的二氧化錫，折射率較高(1.8左右)， 因此易產(chǎn)生干涉條紋引起彩虹。所以應(yīng)在Low-E膜層與玻璃之間加一層光學(xué)過(guò)渡層， 以便消除內(nèi)反射引起的彩虹。

　　③膜厚度的控制

　　Low-E膜層太薄，達(dá)不到紅外反射率、輻射率、表面電阻達(dá)不到要求;而膜層太厚時(shí)，紅外反射、表面電阻、輻射率的指標(biāo)很好，但可見(jiàn)光透過(guò)率、霧度的指標(biāo)不好，因此應(yīng)合理選擇膜層厚度，同時(shí)，由于Low-E玻璃的底膜、頂膜性能不一樣，故厚度需適當(dāng)調(diào)節(jié)。

　　④膜層均勻性的控制

　　在鍍膜過(guò)程中，極易出現(xiàn)膜層不均勻而影響產(chǎn)品質(zhì)量的問(wèn)題，主要是粉末液滴相對(duì)于物料蒸氣的顆粒要大得多，而且物料的性質(zhì)決定了其鍍膜結(jié)構(gòu)，而氣體就可以采取多層料，多層排廢的辦法，使多層鍍膜成功解決了膜層均勻性問(wèn)題。

　　⑤氣幕的設(shè)計(jì)

　　Low-E玻璃的膜層是氧化物形成的薄膜，在鍍膜中要引人氧氣參加反應(yīng)，對(duì)于錫槽中介人氧氣是極其有害的，一旦氧氣泄漏到錫槽中將產(chǎn)生不可估計(jì)的損失，為避免這種情況，應(yīng)在鍍膜器上設(shè)計(jì)專用的氣幕，從而避免氧氣的泄漏。