真空蒸鍍膜玻璃法的種類
為了使蒸發材料氣化，在真空蒸發過程中，大多數蒸發材料都必須在1100~1750C溫度下進行蒸發，因此，必須采用各種加熱方法將蒸發材料加熱，通常把真空設備中對蒸發材料進行加熱的零件稱為蒸發源。蒸發鍍膜的蒸發源有多種形式，如電阻加熱源、電子東加熱源、高頻感應加熱源等，大面積玻璃基片蒸發鍍膜常用電阻加熱源。
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