的跑驚時時，真空室內(nèi)殘余氣體分子中，燕氣分子的平均自由程大于蒸發(fā)展與基片的距寒時，就會獲得充分的便服條件。因此，把真空室抽成兩其空，頂少現(xiàn)示氣體的分子數(shù)、增大殘余氣體分子的平均自由程，使得蒸氣分子與殘余氣體分子的碰撞機會減少，這是非常必要的。

　　當真空度提高時，蒸氣分子從蒸發(fā)源到基片的過程中，與殘余分子碰撞的概率下降。因此，真空鍍鋁時在6X 10-2Pa以上能形成良好的膜層。當真空度低時，會出現(xiàn)下述兩種情況:

　　①基片表面吸附著許多殘余氣體分子，當蒸發(fā)材料的蒸氣分子到達基片之后，在基片表面殘余氣體分子與蒸發(fā)材料的蒸氣分子將產(chǎn)生化合作用，所形成的化合物影響膜的質(zhì)量。

　　②蒸發(fā)材料的蒸氣分子到達基片表面的過程中與殘余氣體分子發(fā)生碰撞的概率增加，使得蒸發(fā)材料蒸氣分子消耗大量的動能，以致達不到基片表面，即使到達基片表面，其吸附性能也會大大降低。因此膜層松散無力，嚴重時出現(xiàn)粉末狀的附著，一擦即脫落。在實際生產(chǎn)中觀察到，真空室的真空度低于10--Pa時，鋁膜呈灰色，其附著力降低，當真空度更低時，鋁膜呈黑色，附著力很低。